Фитокосметик • Acne Control Professional • МАСКА для лица • тканевая Антиоксидантная очищающая 25мл • арт.7629 • Fito косметик

Описание Тканевая маска для лица на основе натуральной белой глины безупречно очищает кожу, выводит токсины, оказывает антисептическое воздействие, подсушивает прыщи, нормализует работу сальных желез, матирует и тонизирует кожу за счет богатого содержания минералов. Натуральная запатентованная формула ACNE CONTROL COMPLEX ТМ на основе 5 кислот и натуральных восстанавливающих компонентов мгновенно борется со всеми недостатками, снимает покраснения, глубоко очищает и сужает поры, обогащает кожу витаминами, возвращает сияние здоровой кожи. Экстракт лаванды способствует быстрому заживлению поврежденной кожи, рассасыванию рубцов, повышает иммунитет и защитные свойства эпидермиса. Увлажняющая сывортка насыщает клетки влагой, активирует выработку коллагена, разглаживает морщинки, делает кожу идеально гладкой, нежной и безупречной. Состав: Aqua, Amaranthus Cruentus Water (Настой Амаранта), Lavandula Angustifolia Extract (Экстракт Лаванды), Rosa Canina Flower Oil (Масло Шиповника), Kaolin (Белая Глина), Oenothera Biennis Oil (Масло Примулы), ACNE CONTROL COMPLEX (Glycerin, Salicylic Acid (Салициловая Кислота), Glycolic Acid (Гликолевая Кислота), Lactic Acid (Молочная Кислота), Papain (Папаин), Citric Acid (Лимонная Кислота), Hydrolyzed Hyaluronic Acid (Гиалуроновая Кислота), Retinol (Ретинол), Allantoin (Аллантоин), Niacinamide (Ниацинамид), Panthenol (Пантенол), Bisabolol (Бисаболол)), Collagen (Растительный Коллаген), Phospholipids (Увлажняющая Сыворотка), Sodium Polyacrylate, Tocopheryl Acetate, Linoleic Acid, Retinyl Palmitate, Benzoic Acid, Sorbic Acid, Dehydroacetic Acid, Benzyl Alcohol. Способ применения: Вскройте упаковку и разверните маску. Наложите маску на чистое лицо. Через 10-15 мин. снимите маску, остатки средства легкими массирующими движениями распределите по коже и оставьте до полного впитывания. Условия хранения: Хранить при температуре от 0 °С до +25 °С, в недоступном для детей месте.